產(chǎn)品與技術
PRODUCTS AND TECHNOLOGY
原子層沉積設備
納設智能原子層沉積設備根據(jù)表面化學自限制反應原理，采用空間隔離技術，能夠精確控制薄膜厚度和生長速率，適用于不同沉積材料，在高速率的薄膜生長過程中能保持薄膜的均勻性，進而制備出均勻性好、保形性優(yōu)、致密性佳的薄膜材料，應用于對超薄薄膜（1nm~50nm）有需求的各個領域，如光伏，半導體，面板顯示，生物醫(yī)療等。
● 精確：控制系統(tǒng)高精度控制各種參數(shù) ● 高效：材料沉積速度快(可達5nm/min) ● 均勻：噴淋板進氣出氣勻氣一體化設計 ● 穩(wěn)定：軟間硬件運行穩(wěn)定，維護周期長