產(chǎn)品與技術
PRODUCTS AND TECHNOLOGY
科研級定制化CVD設備
化學氣相沉積（CVD）設備是一種關鍵的制備工具，被廣泛應用于材料制備和表面工程領域。CVD設備的工作原理是通過將氣態(tài)前體物質(zhì)在恰當?shù)臏囟?、壓力和反應條件下與基底表面反應，從而形成所需的薄膜結構，在半導體、光電子器件、表面涂層等領域有著廣泛的應用。
● 高質(zhì)量薄膜生長：能夠?qū)崿F(xiàn)對材料生長過程的精確控制 ● 高性能材料制備：可以制備出各種特定要求的功能性材料 ● 高效率生產(chǎn)：能夠在相對短的時間內(nèi)完成大面積薄膜的生長 ● 廣泛應用性：MOCVD設備廣泛應用于LED、LD、太陽能電池等領域，為這些器件的制備提供了關鍵的材料基礎。